NM系列衍射三维形貌仪

 
 
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更新 2026-08-17 19:11
 
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板石智能科技(深圳)有限公司

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纳米级XYZ精度 / 原位测量 / 光栅测量

通过光学正向建模算法得到的仿真光学参数,与实际测量的光学参数进行比对;利用LM算法、库匹配、神经网络算法, 提取出样品光栅的占空比、厚度与侧壁角等结构参数。

高精度

三维形貌测量重复性(XYZ)

0.5nm

三维形貌测量准度(XYZ)

2%

膜厚测量重复性

0.01nm

膜厚测量范围

0.5um-20um

折射率重复性

0.0005

光斑大小

150um

光谱范围

245-1000nm

可测CD尺寸

≥20nm,小线宽可定制

XYZ移动方式

电动

对焦方式

自动

实测(标准件在SEM和NM-300测量结果对比) 单位:nm

项目

标准件

扫描电镜切片测量

NM衍射形貌测量

深度

201.9

195.4

194.2

上底

373.1

369.2

368.7

下底

429.8

425.2

421.4

两种模式,两种应用场景

实验阶段 ( 优化模式)

在实验阶段,建立其理论的形貌模型,

通过大量仿真的光学参数实时比对,提取出样品光栅的占空比、厚度与侧壁角等结构参数。

量产阶段  (库匹配模式)

在量产阶段,已确定形貌的设计值,仅需调用数据库内的仿真光学参数,

提取出样品光栅的占空比、厚度与侧壁角等结构参数。

库匹配时间根据计算机运算能力可达毫秒级别,加之光学数据采集,整体测量时间<20s。

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