AF系列薄膜厚度测量仪

偏差精准校正，实现超高分辨率；毫秒级别采样频率，比传统膜厚仪提升2~3倍更合适在线使用！支持Mapping模式，自动快速测量，单点时间＜0.5s，兼容2-12寸晶圆片。

超高精度

分辨率 0.1Å

多层测量

可测层数10层

场景丰富

离线/在线/Mapping多应用场景

行业应用广泛：半导体、精密光学、液晶、新能源/光伏、医疗、刀具、制成薄膜、高分子材料

薄膜厚度测量原理

不同波长的光波穿透被测膜层时，上下表面反射光相互之间的相位差增强或者减弱。

相位差为波长整数倍时，产生建设性叠加，此时反射率最大； 相位差为半波长时，出现破坏性叠加，反射率最低； 整数倍与半波长之的叠加，反射率介于最大与最小反射之间。

通过解析干涉图形计算被测膜层厚度。

光谱

光强均匀、频谱稳定的 “氘灯”和“钨卤素灯”

可测单层、多层膜，液态膜，气隙层，粗糙/光滑层 一台机器覆盖多台机器的测量范围

更加精准

毫秒级别采样频率

比传统膜厚仪提升2~3倍 更合适在线使用

适用于多场景配置

离线式

① 操作简单

② 应用广泛

③ 便于携带

Mapping模式

① 自动快速测量，单点时间＜0.5s

② 点位编程，呈现3D分布

③ 兼容2-12寸晶圆片

在线式

① 体积小，易安装

② 快速采样，采样频率＜0.1s

③ 支持USB链接

全自动

① 晶圆自动上下料

② 兼容4-8寸和8-12寸晶圆片

③ 提供客制化、全面高效的服务