MT270UV 掩膜关键尺⼨(CD) 测量系统

高精度紫外光学量测解决方案，助力先进掩膜制造工艺

MT270UV 是专为半导体掩膜制造中的关键尺⼨(Critical Dimension, CD)测量⽽设计的⾼性能光学量测系统，⽀持最⼤尺⼨达9英⼨的掩膜测量，覆盖⾄65nm节点的先进晶圆制造需求。

该系统采⽤⾼稳定性紫外光源，并对光学测量系统进⾏深度优化，使关键尺⼨测量的重复性优于2nm，确保测量结果的⾼度⼀致性与可靠性。

凭借超过20年的技术积累与持续优化，MT270UV 已在全球主流掩膜制造企业实现⼴泛部署与验证，成为⾏业内公认的标准化关键尺⼨测量设备。其成熟、稳定、可靠的性能表现，为掩膜制造过程中的质量控制提供了坚实保障。

高精度量测

低至2nm的量测重复性精度

灵活易用

产品具备GDS功能，操作方便，易用

成熟，稳定，可靠

低COO，易维护，无短周期消耗品，长期稳定可靠