Spector 掩膜关键尺寸(CD)测量系统

面向先进掩膜制造的高精度光学量测平台

Spector是专为半导体掩膜制造中的关键尺⼨(CriticalDimension, CD)测量打造的⾼端光学量测系统，⽀持⼤14英⼨掩膜的⾼精度测量，全⾯满⾜⾄65nm⼯艺节点的掩膜检测需求。 

系统可选配紫外光源，并对光学器件进⾏专⻔优化，确保关键尺⼨测量重复性优于1.5nm，满⾜⾼稳定性和⾼⼀致性的量测要求。

Spector 采⽤全封闭式设计，⽀持SMIF传输接⼝和全⾃动化搬运流程，满⾜洁净环境下的⾃动化⽣产需求。 同时，系统内置标准 SECS/GEM 通讯协议，便于⽆缝集成⾄Fab⾃动化系统，助⼒客户实现⾼度⾃动化，智能化的掩膜制造流程。

高精度量测

低至1.5nm的量测重复性精度

灵活易用

⽀持SMIF，全⾃动搬运

成熟，稳定，可靠

低COO，易维护，无短周期消耗品，长期稳定可靠