Element GD Plus™ 辉光放电质谱仪

Thermo Scientific™ ELEMENT GD™ PLUS GD 质谱仪将辉光放电离子源和高分辨率质谱仪相结合，可直接分析导体材料。

动态范围：&>10¹² 线性，带有自动交叉校准功能

质量分辨率：3种固定分辨率：≥300、≥4,000、≥10,000

质量稳定性：25 ppm/8小时

灵敏度：对于中分辨率条件下铜峰，>1 x 10¹⁰ Cps (1.6 x 10^-9 A)（峰高，总离子流）

借助 Thermo Scientific™ Element GD Plus™ GD-MS，重新定义高级高纯度固态材料的直接分析。对于高通量和超低 ppb 水平检测限，Element GD Plus GD-MS 是常规应用和研究应用中进行批量金属分析和深度剖析时较便利且强大的工具。

Element GD Plus GD-MS 可以相同水平的灵敏度和数据质量分析导电和非导电材料中几乎所有的周期表元素。通过专用样本制备和分析工作流程，可轻松分析镓等低熔点金属。这使得 GD-MS 成为任何金属分析的可靠标准。

可对固体样本中几乎所有元素进行常规检测和定量：很多元素可低至十亿分之一 (ppb) 的水平。

高生产力和低分析成本
Element GD Plus GD-MS 专用于在高样本处理量下提供出色的灵敏度和准确度，从而显著降低分析成本。

• 高流速离子源

• 用户友好的源设计：样本交换时间<1分钟

• 泵送时间短：样本周转时间<10分钟

• 高样本处理量：高达5个样本/小时

• 更少的样本制备流程：不需要对高纯度样本进行酸洗

• 更快的样本分析：不需要测量校准标准品

常规操作
Element GD Plus GD-MS 以常规操作和高样本处理量为核心设计。

• 涵盖12个数量级以上的线性动态范围，可同时分析基质元素 (%)、痕量元素 (ppm) 和超痕量元素 (ppb)

• 不同检测模式之间的自动交叉校准，可确保获得可靠的结果

• 样本真空室：消除样本和 GD 池之间泄漏的风险

• 无需校准标准品即可在单次扫描内快速确定元素浓度（采用标准 RSF 方法）

• 在较短分析时间内获得较佳的精度

出色的检测限
Element GD Plus GD-MS 可提供高样本处理量且不影响性能。凭借较高的信噪比和较低的检测限，Element GD Plus GD-MS 是超高纯度元素分析的主力设备。

• 独特离子源专为高离子传输而设计，较大程度地提高分析的信号。

• 有保证的信噪比可产生达到亚 ppb 水平的检测限

• 可选的 CNO 选择项可实现 CNO 的亚 ppm 级检测限，而不影响分析的样本处理量

• 与静态 GD 源相比，可将多原子干扰降低 10 倍

可靠的高质量分辨率结果
高分辨率 ICP-MS 的简单性使其具有先进的性能，而不影响直接和可靠的方法开发。

• 测量无干扰，可得到无争议的分析结果

• 可以任意组合单次分析中的分辨率设置选项

• 固定狭缝设计，可确保较大的稳定性和重现性

• 配有滤光镜，可大幅降低高基质信号对相邻分析物峰的影响

采用纳米分辨率进行深度剖析
深度剖析是分析涂层元素和评估元素层间扩散的重要工具。

• 从纳米到数百微米范围的深度分辨率

• 无需校准即可确定所有元素的浓度（从亚 ppm 水平到100%）

• 灵活的阳极直径，适用于先进的深度剖析

• 可调整溅射速率，以进行批量分析或深度剖析

建议用于：

• 航空航天：镍基高温合金、复合材料、涂层和扩散层的深度剖析

• 微电子学：铜、铝粉、溅射靶材

• 可再生能源：硅块、晶片、太阳能电池

• 医学/制药/食品：不锈钢、合金