HEM6000是一款可实现跨尺度大规模样品成像的高速扫描电子显微镜。
采用高亮度大束流电子枪、高速电子偏转系统、高压样品台减速、动态光轴、浸没式电磁复合物镜等技术,实现了超快的数据采集和成像速度,同时保证了纳米级分辨率。
面向应用场景的自动化操作流程设计,使得大面积的高分辨率图像采集工作更高效、更智能。成像速度可达常规场发射扫描电镜的5倍以上。
图像采集速度
10 ns/pixel,2*100 M pixel/s
加速电压
100 V~6 kV(减速模式) ; 6 kV~30 kV(非减速模式)
分辨率
1.3nm@3kV,SE;1.5nm@1kV,SE,0.9nm@30kV,STEM
视场大小
最大视场1*1 mm²,高分辨微畸变视场64*64 um²
样品台精度
重复定位精度:X ±0.6 um;Y ±0.3 um
高速扫描驱动器
驻点时间10 ns/pixel,最快采集速度2*100 M pixel/s
电子过滤系统
SE/BSE信号自由切换,信号混合比例可调
全静电高速偏转系统
可实现高分辨大场模式,4 nm像素点最大视场达64*64 um²
样品台减速技术
降低入射电子落点电压,同时提高回收电子的收集效率
浸没式电磁复合物镜
物镜磁场浸没样品实现了低像差高分辨率
产品优势
1.高速自动化
全自动上下样流程和采图作业,综合成像速度优于常规场发射扫描电镜的 5 倍
2.大场低畸变
跟随扫描场动态变化的光轴,实现了更低的场边缘畸变
3.低压高分辨
样品台减速技术,实现低落点电压,同时保证高分辨率
关键参数 | 分辨率 | 1.3nm@3 kV,SE ; 1.5nm@1 kV,SE | |
1.9nm@ 3 kV, BSE; 2.3nm@ 1 kV, BSE | |||
0.9nm@30kV,STEM | |||
加速电压 | 100 V~6 kV(减速模式) | ||
6 kV~30 kV(非减速模式) | |||
放大倍率 | 66~1,000,000x | ||
电子枪类型 | 高亮度肖特基场发射电子枪 | ||
物镜类型 | 浸没式电磁复合物镜 | ||
偏转系统 | 静电偏转器 | ||
样品装载系统 | 真空系统 | 全自动控制,无油真空系统 | |
样品监控 | 样品仓监控水平摄像头; 换样仓监控垂直摄像头 | ||
样品最大尺寸 | 直径4英寸 | ||
样品台 | 类型 | 电机驱动3轴样品台(*可选配压电驱动样品台) | |
行程 | X、Y轴:110mm; Z轴:16mm; | ||
重复定位精度 | X轴:±0.6μm; Y轴:±0.3μm; | ||
换样方式 | 全自动控制 | ||
换样时间 | <15 min | ||
换样仓清洗 | 全自动控制等离子清洗系统 | ||
图像采集与处理 | 驻点时间 | 10 ns/pixel | |
图像采集速度 | 2*100 M pixel/s | ||
图像大小 | 24K*24K | ||
探测器和扩展 | 标配 | 镜筒内混合电子探测器 | |
选配 | 低角度背散射电子探测器 | ||
镜筒内高角度背散射电子探测器 | |||
明场透射电子探测器 | |||
高角/中角/底角暗场透射电子探测器 | |||
压电驱动样品台 | |||
高分辨大场模式 | |||
样品仓等离子清洗系统 | |||
6英寸样品装载系统 | |||
主动减震台 | |||
AI降噪;大图拼接;三维重构 | |||
软件 | 语言 | 中文 | |
操作系统 | Windows | ||
导航 | 光学导航、手势快捷导航 | ||
自动功能 | 自动样品识别、自动选区拍摄、自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散 |