WaferX 310 波长色散X射线荧光光谱仪(WDXRF)

 
 
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品牌 理学
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更新 2025-04-07 11:05
 
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理学电企仪器(北京)有限公司

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详细说明

同时厚度和成分

WaferX 310是测量BPSG,PSG和金属膜的理想选择。此外,薄膜BPSG、多层电路膜、WSix、电极膜、铁电介质薄膜、FRAM、下一代DRAM和SiOF是该工具的标准应用。

支持亚微米技术的分析

通过使用具有超薄窗口铍窗口的4kW高功率x射线管,对BPSG薄膜中的B和P等超轻元素的高精度分析得到了显着改善。

先进的设计

该仪器采用晶片高度调整机构来补偿晶片厚度的差异,并采用衍射避免机构来消除过渡金属的衍射干扰。集成FOUP(SMIF) 可用,支持C到C标准。也可以装载各种用户盒。FOUP(SMIF) 穿墙选项可用。

软件重新设计

功能

获得专利的 “衍射避免” 功能,可获得准确的XRF结果

高灵敏度硼分析 (带AD-硼通道)

机器人晶圆处理和全自动操作

固态无油x射线发生器

FOUP、SMIF和穿墙配置可满足大批量制造晶圆厂的各种需求

GEM300软件

自动校准

WaferX 310规格

技术同时波长色散x射线荧光
效益300mm和200mm晶圆多层堆叠的厚度和组成
技术带4 kW密封Rh x射线管的工艺WDXRF
属性覆盖晶片计量
最大20个通道,固定类型 (4c be ~ ₉² u),扫描类型 (² ² ti ~ ₉² u)
AutoCal函数
特点专为测量吞吐量而设计
真空下的测量启用轻元素灵敏度
双FOUP (SMIF) 加载端口
选项穿墙
高灵敏度硼探测器 (AD-硼)
GEM300软件,E84/OHT支持
尺寸1200 (W) x 1950 (H) x 2498 (D) mm
测量结果薄膜厚度和成分


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