VK-X3000 系列形状测量激光显微系统

 
 
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更新 2025-07-12 17:53
 
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详细说明

搭载白光干涉功能

纳米/微米/毫米一台即可完成测量 

超越激光显微镜的限制,以三重扫描方式应对 

• 一台即可测量纳米/ 微米/ 毫米

 • 一台即可了解希望获取的信息

 • 最高分辨率0.01 nm

采用了三重扫描方式,运用激光共聚焦、白光干涉、聚焦变化等三种不同的扫描原理,高倍率和低倍率,平面、凹凸表面的细微粗糙度,以及镜面体,透明体等。VK拥有应对多种样品的测量能力(从 1 nm 到 50 mm),纳米/微米/毫米一台完成测量。

激光显微系统的基本特点

观察

从光学显微镜到SEM领域一台设备涵盖

 • 42 至 28800 倍 

• 无需对焦 

• 适用于多种样品

测量

非接触瞬间扫描形状

 • 不会损伤目标物

 • 纳米级别也可准确测量

 • 透明体和坡度大的目标物也可测量

分析

希望了解的表面“差异”一目了然 

• 定量化微小形状

 • 轻松比较多个样品 

• 粗糙度分析

三重扫描方式解决“难以测量”的难题

可根据样品工件的材料、形状和测量范围,选择激光共聚焦、白光干涉、聚焦变化等三种不同的扫描原理,进行高精度测量。

最高分辨率0.01 nm

即使是纳米级的微小形状变化也能准确测量。

此外,如镜面体、透明体等测量难度高的材料也能实现高速、高精度、大范围的测量。

连高度差较大的凹凸处和大范围区域也能测量

最大扫描区域50 mm见方。

凹凸不平或手掌大小的物体也能整体扫描。

只需一台设备,即可同时掌握整体形状和局部形状。

精确测量高倍率和低倍率。平面和凹凸面。 适用于各种目标物的测量能力

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