Sigma 560
高通量分析，原位实验自动化
对实体样品进行高效分析：基于SEM的高速和全方位分析。
实现原位实验自动化：无人值守测试的全集成实验室。
可在低于1 kV的条件下完成要求严苛的样品成像：采集完整的样品信息。
蔡司Sigma 560扫描电镜的五大优势
蔡司Sigma 560扫描电镜是一款高性能的电子显微镜，它具备多种优势，包括高通量分析、原位实验自动化、低电压成像以及强大的EDS功能。以下是它的五大主要优势：
高效分析实体样品
蔡司Sigma 560基于SEM（扫描电子显微镜）技术，能够进行高速和通用的分析。它配备了先进的EDS（能量色散谱）系统，采用一流的几何学设计，提高了分析效率。两个180°径向相对的EDS端口确保了在低电压和小束流条件下也能实现高通量无阴影元素面分布。
自动化原位实验
Sigma 560还具备原位实验自动化的功能，通过全集成实验室解决方案，可以实现无人值守的加热和拉伸测试。它能够不依赖操作人员，自动执行复杂的3D分析，如3DSTEM断层成像或基于人工智能的图像分析。
低电压成像
在1kV或更低电压条件下，Sigma 560能够轻松分辨差异，实现信息量丰富的成像和分析。即使在500V时，它的分辨率也能达到1.5nm。新的NanovP lite模式下，使用新型aBSD或C2D探测器，可以在可变压力下轻松拍摄要求苛刻的样品。
强大的EDS功能
Sigma 560的EDS系统不仅通用且高速，还能助您深入研究。样品室的附加EBSD和WDS端口可以进行除EDS外的多种分析。不导电样品也可以使用全新的Nanovp lite模式进行分析，并能获得更强的信号和更高的对比度。
用户友好的设计
为了满足研究电子设备的需求，Sigma 560还配备了等离子清洗仪和可通过6英寸晶圆的新型大尺寸样品交换舱，防止样品室受到污染。这些设计使得操作更加简便，
Gemini 1的光学系统
Gemini 1的光学系统由三个元件组成：物镜、电子束推进器和具有Inlens探测原理的探测器。其中，物镜的设计将静电场与磁场的作用力相结合，大大优化光学性能的同时，降低了样品所处的场影响。如此也可实现对磁性材料等具有挑战性的样品的高品质成像。Inlens探测原理通过对二次电子（SE）和/或背散射电子（BSE）的探测来确保高效的信号检测，同时大幅缩短获取图像的时间。电子束推进器保证了小尺寸的电子束斑和高信噪比。
灵活探测
Sigma配备了一系列不同的探测器，通过新探测技术对您的样品进行表征。使用ETSE和Inlens探测器的高真空模式可获取表面形貌的高分辨率信息。使用VPSE或C2D探测器的可变压力模式可获得清晰图像。使用aSTEM探测器可进行高分辨率透射电子成像。 采用不同的可选BSE探测器（如aBSD探测器）可以深入研究样品的成分和表面形貌。
NanoVP lite模式
采用NanoVP lite模式进行分析和成像，在低电压条件下可获得更高的图像质量，更快速地获取更准确的分析数据。
在NanoVP lite模式下，裙边效应降低且入射束流的路径长度（BGPL）减小。裙边减小会提高SE和BSE成像的信噪比。
带有五段圆弧的伸缩式aBSD可提供出色的材料成分衬度：在NanoVP lite工作过程中，该探测器配备了安装在极靴下方的束流套管，其可提供高通量及低电压的成分和表面形貌高衬度成像，适用于可变压力和高真空条件。
应用：
1.材料科学
NanoVP lite模式下断裂的聚苯乙烯表面成像，以了解聚合物界面处的裂纹形成和附着力
用于药物传递的MSC胶囊（中空介孔二氧化硅）。背散射成像显示了二氧化硅纳米胶囊中的氧化铁颗粒
以低电压成像的碳纳米管（CNT）
氧化铝球体。在500V表面信息敏感条件下高分辨率成像，可以看到烧结颗粒的表面梯度，某些梯度之间的距离仅为3nm。
电池正极铝箔颗粒表面。利用材料成分衬度识别Li-NMC上的粘合剂（较暗的材料），使用aBSD成像
2.生命科学
在1KV高真空条件下，使用ETSE探测器轻松完成放射虫精细镂空结构成像，图像宽度183μm
在1KV高真空条件下对蘑菇真菌孢子成像
3、地球科学与自然资源
在20KV下使用YAG-BSD成像的岩石样品，由于YAG晶体的光传导性能可高速采集图像
4.工业应用
在40Pa可变压力模式下，使用C2D探测器轻松完成对颜料和遮光剂用非导电二氧化钛颗粒的成像，图像宽度10μm
在1KV下使用aBSD对超导合金样品成像（比例尺20μm）
氧化锌枝晶：检测储能系统电极的形态变化
