GD-Profiler 2™ 可以快速、同时分析所有感兴趣的元素，包括气体元素N、O、H和Cl，是薄膜和厚膜表征和工艺研究的理想工具。
GD-Profiler 2™ 配备的射频源可在脉冲模式下对易碎样品进行测试，广泛应用于高校以及工业研究实验室，其应用范围有腐蚀研究、PVD 涂层工艺控制、PV 薄膜开发以及LED 质量控制等。
射频发生器是 E 类标准，对稳定性和溅射坑形状都进行了优化以满足实时表面分析。
射频源可以分析传统和非传统镀层和材料，对于易碎样品，还可以使用脉冲式同步采集优化测试。
从 110nm到 800nm 同步全光谱覆盖，包括分析 H、O、C、N 和 Cl 的深紫外通道。
HORIBA 研发的离子刻蚀型全息光栅具有高的光通量和光谱分辨率，光学效率和灵敏度都表现优良。
HDD 探测器兼具检测速度和灵敏度。
内置的微分干涉仪DIP可实时测量溅射坑深度和剥蚀速率。
宽敞简洁的大样品仓易于装卸样品，操作简单。
QUANTUM™ 软件配置了Tabler 报告编写工具。
专利激光中心定位装置（专利号：Fr0107986/国际专利种类：G01N 21/67）可定位样品测试位置。
HORIBA 的辉光放电光谱仪可以选配单色仪，实现n+1元素通道的同时也提高了设备的灵活性。
辉光源结合超快速、高分辨的同步光学器件，可对导体、非导体和复合材料进行快速元素深度剖析。
适用于薄膜和厚膜——从纳米到数百微米，且具有纳米级深度分辨率。
典型应用领域包括光伏、冶金、LED 制造、腐蚀研究、有机和微电子、材料研发、沉积工艺优化、PVD、CVD、等离子涂层、汽车、锂电池等。
不需要超高真空。
使用高动态探测器可以测量所有感兴趣的元素（包括 H、D、O、Li、Na、C、N 等）。
可选附件单色仪配备的也是高动态探测器，可在image模式下做全谱扫描，极大的增加了设备的灵活性。
脉冲式射频源，可选择在常规射频模式和脉冲式射频模式下工作，且可全自动匹配。
辉光源采用差速双泵真空系统，可为SEM制备样品。
内置等离子清洗功能。
超快速溅射模式UFS可快速分析聚合物和有机材料。
内置的微分干涉仪DIP，可直接在线测定深度。
用于异形样品测试的各种铜阳极和附件。
Windows 10 软件 – 为远程安装提供多个副本
