UVISEL Plus在线监控椭偏仪可以很容易的安装在各类反应腔（PECVD、MOCVD、磁控溅射、蒸镀、ALD和MBE），实时监控薄膜沉积或刻蚀过程。
UVISEL Plus在线椭偏仪结合了速度快、灵敏度高、动态范围宽和准确等优点，使其能够在原子层水平监控沉积/刻蚀，即使过程速度比较快也可实现。
采用新型适配器组件可以实现台式设备和在线系统的切换。
UVISEL Plus在线椭偏仪使用DeltaPsi2软件驱动，该软件适用于HORIBA所有椭偏仪。DeltaPsi2具有众多先进的建模和拟合处理功能，操作界面简单，可为研究者提供便捷的椭偏分析手段。先进的通讯协议，TCP/IP和RS232已被设计用于生产环境和OEM。
高速、准确
完整集成了实时测量、建模和报告软件包
便于在线和离线间切换
可获得的信息
薄膜厚度
光学常数（n,k）
材料组成
光谱范围：190-885 nm，可扩展至 190-2100 nm
光源：75W氙灯或150W氙灯
探测系统：单点或实时光谱采集使用高灵敏度，宽动态范围的PMT探测器和扫描单色仪，原位监控薄膜沉积/蚀刻
光斑尺寸@300：50μm , 100μm & 1mm
机械适配器：CF35或KF40法兰
