300 mm样品测试范围，半导体研发、失效分析和纳米污染物识别的强有力工具
Dimension IconIR300™大样品纳米红外系统为半导体应用提供高速、高精度的纳米级表征，具有优秀的测量能力、样品尺寸和材料类型灵活性。通过其专利的光热红外光谱技术和纳米级原子力显微镜(AFM)性质成像能力的结合，IconIR300 能够实现自动化晶圆检测和缺陷识别，适用于最广泛的晶圆和光掩模样品测量。该系统显著扩展了AFM-IR技术在半导体行业的应用范围，超越了传统技术所能达到的领域。
IconIR300建立在Dimension IconIR系统开创性大样品架构之上，提供相关显微镜和化学成像，与传统技术相比增强了空间分辨率和灵敏度。可与自动化晶圆处理和先进的数据收集/分析软件集成，该系统可节省时间和成本，提高生产效率。
全晶圆纳米级化学和材料属性表征
结合红外光谱学和AFM性质成像，实现200 mm和300 mm晶圆高精度、无损测量。
半导体行业的超凡纳米红外光谱和化学成像
Dimension IconIR300系统对300mm晶圆缺陷检测时的内部视图
