带集成VPD的TXRF光谱仪
超高速金属污染测绘
VPD灵敏度最高
适用于高达300mm的晶圆
典型元素检出限 (LLD)
| 检测限 LLD (E10原子数/cm ²) | 铝 | 铁 | Ni | 铜 |
| TXRF | 14 | 0.06 | 0.06 | 0.09 |
| VPD-TXRF | 0.1 | 0.001 | 0.001 | 0.002 |
测量时间: 1000秒
XHEMIS TX-3000V规格
| 技术 | 具有气相分解 (VPD) 的全反射x射线荧光 (TXRF) | |
|---|---|---|
| 效益 | 超痕量元素表面污染的测量 1E7原子/cm ² 检出限 ~ 3x提高映射速度 | |
| 技术 | 集成式自动VPD制备、三光束激发和自动光学交换 | |
| 属性 | 三检测器配置 高功率W阳极x射线源 (9 kw旋转阳极) 针对光、跃迁和重元素优化的三种激发能 Xy θ 样品台 双FOUP负载端口 | |
| 特点 | 全晶圆映射 (扫描-TXRF) 零边缘排除 (ZEE-TXRF) Si晶圆的集成、自动VPD预处理 (VPD-TXRF) 最高灵敏度 双FOUP负载端口 | |
| 选项 | 背面分析 (BAC-TXRF) GEM300软件，E84/OHT支持 气相处理 (VPT-TXRF) 用于增强灵敏度，同时保留空间信息 亲水晶片表面的VPD (例如，SiC) | |
| 尺寸 | 1280 (W) x 3750 (D) x 2040 (H) (不包括监控器和信号塔) | |
| 测量结果 | 定量结果，光谱图，彩色等值线图，映射表 | |
