氩离子束场发射扫描电镜 ABSEM 200MA，作为一款创新的多功能样品制备和分析系统，突破性地将宽束氩离子枪集成于扫描电镜的样品室内，成功实现了离子束原位抛光以及高分辨电子束成像分析的无缝衔接，无需繁琐的样品转移流程极大地提升了分析效率。
ABSEM 200MA所搭载的宽离子束技术，具备强大的处理能力，能够轻松应对毫米级的大尺寸样品，极大地拓宽了其应用范围。掠射角的设计可以有效降低在处理过程中对样品造成的损伤，确保了样品的完整性和原始状态。纳米级层切模块能够精准控制去层厚度，且独有的杂屑捕获装置确保系统稳定运行，有效避免了杂屑对实验的干扰和潜在风险。
ABSEM 200MA特别适用于环境敏感或结构复杂的样品，为用户提供了一种高效精确的样品表征解决方案。ABSEM 200MA，成功开启探索微观世界的崭新篇章！
技术原理
ABSEM200MA双束系统将氩离子枪集成于屹东光学的场发射扫描电镜平台上，使宽束氩离子束以可调节的掠射角（0-36°）入射样品表面，通过前端的单向聚焦模块将离子束聚焦成线性束斑，提高作用于样品表面的束流密度，使得离子束的能量能够更加高效地作用于样品的微观区域。
样品台的摆动或旋转，有效地降低了窗帘效应，最大程度地减少了离子束对样品的辐照损伤。ABSEM 200MA还配备了高精度的挡板层切模块，能够根据科研人员的具体需求，精确去除样品表面的厚度，从而获得理想的观察深度和高分辨率的解析度。同时，独有的杂屑捕获装置可以有效收集离子束溅射中产生的各类污染物质，确保了系统运行环境的清洁与稳定。
抛光过程结束后，无需样品转移，可直接对暴露出的样品表面进行高分辨扫描成像，获得样品表面的微观形貌和结构信息。
产品优势
用户界面
· 界面布局清晰简练
· 人体工学键盘设计
· 配备多种安全互锁
· 操作简捷流畅
离子光学系统 | 离子束能量范围 | 1kV-5kV |
离子束束流 | ≤400μA | |
束斑直径 | ≤10mm | |
气体类型 | 氩气 | |
常用工作气压 | 5e-5mbar | |
入射角度 | 0-36° | |
离子束加工样品尺寸和要求 | 样品尺寸 | ≤10mmx10mmx4mm |
样品重量 | ≤300g | |
层切范围 | ≤200μm | |
层切厚度 | ≥20nm | |
电子光学系统 | 电子枪类型 | 高亮度肖特基场发射电子枪 |
加速电压 | 0.02-30kV | |
电子束流 | 1pA-20nA | |
放大倍率 | 1-2,000,000x | |
分辨率 | 1.0nm@15kV（SE），1.5nm@1kV（SE） | |
探测器 | 标配 | 样品室内二次电子探测器 |
镜筒内二次电子探测器 | ||
选配 | 标准背散射电子探测器 | |
低压背散射电子探测器 | ||
样品室 | 仓室 | 内径340mm，高度260mm |
全自动多级溅射污染控制系统 | ||
多附件接口，可加装EBSD、EDS、等离子清洗机等多种附件 | ||
样品台 | 五轴全自动样品台 | |
X/Y行程≤60mm×60mm，Z≤38mm，R=360°旋转，T=-45°~+70° | ||
影像系统 | 样品室内监控、氩离子束监控 | |
软件及图像处理 | 语言 | 中文/英文，可定制其它语言 |
操作系统 | Windows | |
图像分辨率 | 512*512-16k*16k | |
自动功能 | 自动聚焦、自动亮度对比度等 | |
参数推荐 | 预设常用材料抛光参数 | |
其它功能 | 分屏显示、图像注释和测量、图像混合、大面积图像采集和拼接等 |