利用磁光克尔效应，对铁磁、人工反铁磁、二维材料和微电子器件的磁性进行高精度表征。能同时施加面内和垂直磁场，对面内磁化分量和垂直磁化分量进行同时扫描，即能够同时获得面内磁场/垂直磁场-面内分量/垂直分量任意组合的磁滞回线。克尔转角检出精度高达0.3 mdeg(RMS)，可检测单原子层磁化强度。产品由本公司自主研发，稳定性强、可扩展性良好;与同行类似设备相比，磁场更大，精度更高，无需更换光路即可实现面内和垂直磁滞回线测量，具备激光自动对准。
克尔转角分辨率 | 0.3 mdeg (RMS) |
面内磁场 | 1 T@气隙8 mm;0.5 T@气隙16 mm |
垂直磁场 | 1 T@气隙7 mm;0.5 T@气隙16 mm |
磁场分辨率 | PID闭环反馈调节，分辨率0.02 mT |
多轴位移台 | X、Y、θ、φ中自动调节激光对正样品 |
测试功能 | 便捷精准的控制磁场输出;实现纵向、极向磁滞回线扫描，磁滞回线自动修正、归一化，自动提取饱和克尔转角、矫顽场等参数 |