用于大样品的顺序波长色散XRF光谱仪
连续波长色散XRF光谱仪提供分析灵活性
Rigaku独特的AZX 400连续波长色散x射线荧光 (WDXRF) 光谱仪可以测量元素周期表中的大多数元素 (从Be到U)，使其成为工艺研发或小批量生产的理想薄膜评估工具，高产品组合环境。AZX 400的独特能力，接受样品直径达400毫米，50毫米厚和30公斤质量也使溅射靶的成分分析，一个关键的测量能力的过程要求严格的成分控制。
AZX 400概述
带定制样品适配器系统的XRF
具有适应您的特定样品类型和分析需求的多功能性，该WDXRF光谱仪适用于各种样品尺寸和形状使用可选的 (定制) 适配器插入。具有可变测量点 (直径30毫米至0.5毫米，5步自动选择) 和多点测量的映射功能，可检查样品的均匀性，这种独特的灵活的仪器可以大大简化您的质量控制过程。
XRF与可用的相机和特殊照明
可选的实时摄像头允许在软件中查看分析区域。操作员完全确定正在测量什么。
传统的WDXRF分析功能
传统仪器的所有分析能力都保留在这种 “大样品” 变体中。通过高分辨率，高精度WDXRF光谱通过铀 (U) 分析铍 (Be)，从固体到液体，从粉末到薄膜。分析宽的成分范围 (ppm到百分之十) 和厚度 (亚 Å 到毫米)。可选地可用的是衍射峰干扰抑制，用于单晶衬底的最佳结果。Rigaku AZX 400波长色散x射线荧光 (WDXRF) 光谱仪符合行业标准SEMI和CE。
AZX 400应用程序
溅射靶组成
隔离膜: SiO₂,BPSG，PSG，AsSG，si3n，SiOF，SiON等。
高k和铁电薄膜: PZT，BST，SBT，ta ² o-，HfSiOx
金属膜: al-cu-si、W、TiW、Co、TiN、TaN、ta-al、Ir、Pt、Ru、Au、Ni等。
电极膜: 掺杂多晶硅 (掺杂剂: B、N、O、P、As) 、非晶Si、WSix、Pt等。
其他掺杂薄膜 (As，P)，捕获惰性气体 (Ne，Ar，Kr等)，C (DLC)
铁电薄膜，FRAM，MRAM，GMR，TMR; PCM，GST，GeTe
焊料凸点成分: SnAg，SnAgCuNi
MEMS: ZnO，AlN，PZT的厚度和成分
SAW器件工艺: AlN，ZnO，ZnS，SiO的厚度和组成₂ (压电薄膜); Al，AlCu，AlSc，AlTi (电极薄膜)
AZX 400配件
具有特殊照明的样品相机允许在屏幕上查看分析点
衍射干涉抑制为单晶衬底提供准确的结果
薄膜分析的基本参数软件
AZX 400规格
技术 顺序波长色散x射线荧光 效益 可灵活测量各种样品类型，包括50-300mm晶圆、试样和溅射靶 (最大30 kg) 技术 测量从Be到U的元素的分析灵活性
非常适合工艺研发和小批量、高产品组合环境属性 4 kW密封x射线管，顺序型测角仪，初级光束过滤器; 测量点尺寸30、20、10、1和0.5mm (直径) 特点 SQX (无标准分析) 软件
真空下的测量启用轻元素灵敏度
衍射峰干扰抑制选项 晶圆装载器
示例视图相机尺寸 1376 (W) x 1710 (H) x 890 (D) 毫米 测量结果 薄膜厚度和成分