超高分辨能力
旗舰级场发射电子光学镜筒
最高分辨能力可达1.2nm@1kV,0.7nm@15kV
镜筒内减速
配备镜筒内减速技术,可以提供低至50eV的超低能量超高分辨成像能力,轻松观察样品极表面细节
绝缘样品、不耐辐照样品、磁性样品均可观测
多模式一键切换
三物镜结构提供更加灵活多变的物镜组合模式,无需改变工作距离即可一键切换超大视野、超大景深、超高分辨、超大束流等多种观测模式
关键技术
镜筒内减速技术
搭载镜筒内减速技术,在极低着陆电压下(<1KV时)仍可以有效控制相差,提供超高分辨成像水平。
"三物镜"技术
物镜系统由两组磁透镜和一组电透镜组成,三组物镜均可独立控制并任意组合以聚焦电子束;三种物镜的灵活组合可以应对更加多样的观测场景,用户在不改变工作距离的前提下即可实现一键全自动切换超大视野、超大景深、超高分辨等多种成像模式。
全电压段多路成像
标配Inlens-SE、BSE、ET-SE三种电子探测器,这些探测器在全电压段(0-30kV)均可同时成像,最大程度为高分辨形貌观察、成分分析提供便利。
成像图
湿法隔膜(800eV)
光刻胶(2keV)
分子筛(500eV)
Co基合金(磁性样品)
Al2O3颗粒(1keV)
纳米Fe3O4粉末(2keV)
产品参数
电子枪 | 高亮度肖特基电子枪 | ||
镜筒技术 | 镜筒内减速技术;“三物镜”技术(双组磁透镜,单组电透镜) | ||
分辨率 | 高真空 | 0.7nm@15KV;1.2nm@1kV;1.5nm@500V | |
低真空 | 2nm@15kV | ||
最低可成像电压 | 50V | ||
束流 | 1pA-400nA,连续可调 | ||
最大视野 | 80mm | ||
附件拓展 | 聚集离子束 | Ga离子源/氙离子源或三方离子源 | |
阴极荧光 | 单色探测器/3波段探测器或第三方 | ||
原位拉曼仪 | 一体式或分体式(抗震波纹管连接) | ||
原位飞行质谱 | 与聚焦离子束联用 | ||
原位拉伸台 | 冷热/拉伸/疲劳测试 | ||
真空冷冻系统 | 兼容主流方案 | ||
三维EBSD | 样品微区原位重构 | ||
三维EDS | 样品微区原位重构 |