实时泄漏检测、端点检测和过程监控
INFICON Quantus HP100气体分析仪基于自等离子体光发射光谱技术（SPOES），旨在提供半导体制造过程中的实时泄漏检测、端点检测和过程监控。Quantus HP100具有出色的灵敏度，外形紧凑，提供宽广的操作压力范围，无需昂贵的泵，因此非常适合大多数半导体工具的过程监控和保护。
特点
氩气的操作范围为1 Torr - 450 Torr，氮气的操作范围为1 Torr - 120 Torr（其他气体种类则有所不同）
低检测限<1 ppm
使用标准KF25连接，安装方便
快速采样（最大20赫兹）
占地面积小（高x宽x长）：6.4 x 6.0 x 8.3 in. [162 x 153 x 210 mm］
低维护，不需要泵或消耗品
方便的现场可更换的等离子池
为您的特殊工艺需求提供全球专家支持
规格
| 操作压力 | 1 Torr - 450 Torr (取决于应用) |
| 光谱仪性能 | 200至850纳米波长（紫外-可见光） 16位全尺度分辨率，3648像素 |
| 检测极限 | < 1 ppm (取决于应用) |
| 曝光时间 | 最少1毫秒 |
| 真空配件 | KF25 |